उत्पाद अवलोकन

हमारे संक्षारण-प्रतिरोधी शुद्ध लोहे की चादरें आक्रामक वातावरण में असाधारण स्थायित्व और दीर्घायु प्रदान करने के लिए इंजीनियर हैं, जो पारंपरिक कार्बन स्टील्स और स्टेनलेस मिश्र धातुओं को बेहतर बनाने के लिए उन्नत सतह उपचार के साथ 99.95%+ लोहे की शुद्धता का संयोजन करती हैं। रासायनिक प्रसंस्करण, समुद्री इंजीनियरिंग, और अक्षय ऊर्जा जैसे उद्योगों के लिए डिज़ाइन किया गया, ये शीट ऑक्सीकरण, पिटिंग, और तनाव संक्षारण क्रैकिंग (SCC) के लिए बेजोड़ प्रतिरोध को प्राप्त करने के लिए नियंत्रित अशुद्धता के स्तर और अभिनव माइक्रोस्ट्रक्चरल इंजीनियरिंग का लाभ उठाते हैं।

प्रमुख रचना और भौतिक लाभ

1। अल्ट्रा-हाई प्योरिटी:

- लोहे की सामग्री: 99.95% Fe से अधिक या बराबर, प्रतिक्रियाशील अशुद्धियों को कम करना (c)<0.005%, S/P <0.003%) that accelerate corrosion.

- ट्रेस तत्व: दुर्लभ पृथ्वी तत्वों के नियंत्रित परिवर्धन (जैसे, एलए, सीई<0.01%) refine grain boundaries and inhibit intergranular attack.

2। सतह इंजीनियरिंग:

-एआई-अनुकूलित ऑक्साइड परत: एक मालिकाना विद्युत रासायनिक पास होने की प्रक्रिया एक घनी, आत्म-चिकित्सा fe₃o₄\/ -fe₂o₃ ऑक्साइड परत (मोटाई: 20-50 एनएम) बनाती है, जो आर्द्र या अम्लीय परिस्थितियों में बाधा सुरक्षा को बढ़ाती है।

- Nanocrystalline Coating: Optional plasma-sprayed Al₂O₃ or Cr₂O₃ coatings (adhesion strength >50 एमपीए) समुद्री या उच्च तापमान सेटिंग्स जैसे चरम वातावरण के लिए।

3। माइक्रोस्ट्रक्चरल डिज़ाइन:

- अनाज सीमा इंजीनियरिंग: वैक्यूम एनीलिंग अव्यवस्था घनत्व को कम करता है और स्थानीयकृत जंग के लिए संवेदनशीलता को कम करते हुए, अनाज संरचनाओं को बढ़ावा देता है।

- हाइड्रोजन उत्सर्जक प्रतिरोध:<1 ppm dissolved hydrogen, validated via thermal desorption spectroscopy (TDS).

संक्षारण प्रतिरोध के तंत्र

1। निष्क्रिय फिल्म गठन:

-उच्च शुद्धता वाले लोहे के मैट्रिक्स तेजी से ऑक्सीजन युक्त वातावरण में एक स्थिर, क्रोमियम-मुक्त निष्क्रिय ऑक्साइड परत बनाते हैं, जिससे आगे ऑक्सीकरण को रोका जाता है।

- क्रोमियम पर निर्भर स्टेनलेस स्टील्स के विपरीत, हमारी चादरें अनाज की सीमाओं पर सीआर की कमी के जोखिम से बचती हैं, क्लोराइड-समृद्ध सेटिंग्स में एक सामान्य विफलता मोड।

2। इलेक्ट्रोकेमिकल स्थिरता:

-कम गैल्वेनिक गतिविधि: सजातीय माइक्रोस्ट्रक्चर माइक्रो-गैल्वेनिक जोड़ों को कम करता है, पारंपरिक कम कार्बन स्टील्स की तुलना में पिटिंग क्षमता को 40% तक कम करता है।

- पीएच अनुकूलनशीलता: रासायनिक भंडारण टैंक और विलवणीकरण प्रणालियों के लिए आदर्श, एक व्यापक पीएच रेंज (3–11) में संक्षारण प्रतिरोध को बनाए रखता है।

3। तनाव संक्षारण क्रैकिंग (SCC) शमन:

- अवशिष्ट तनाव<50 MPa post-rolling, combined with ultra-low sulfur, eliminates crack initiation sites in high-stress applications.

अनुप्रयोग

उद्योग	उदाहरण	प्रदर्शन लाभ
रासायनिक प्रसंस्करण	रिएक्टर लाइनर, एसिड भंडारण टैंक	H₂so₄, HCl, और कार्बनिक एसिड का समर्थन करता है
समुद्री इंजीनियरी	अपतटीय प्लेटफ़ॉर्म घटक	नमक स्प्रे और माइक्रोबियल संक्षारण का सामना करता है
नवीकरणीय ऊर्जा	हाइड्रोजन इलेक्ट्रोलाइज़र द्विध्रुवी प्लेट	शून्य आयन लीचिंग पेम शुद्धता सुनिश्चित करता है
भोजन और फार्मा	नसबंदी उपकरण	गैर विषैले, एफडीए-अनुपालन सतह

तकनीकी निर्देश

संपत्ति	कीमत	परीक्षण मानक
मोटाई	{{0}}}।	एएसटीएम ए 480
क्षरण दर	<0.1 mm/year in 3.5% NaCl (25°C)	एएसटीएम जी 31
सतह खुरदरापन	Ra से कम या 0 के बराबर। 8 μM (मिरर फिनिश वैकल्पिक)	आईएसओ 4287
ऊष्मीय चालकता	80 W/m·K	ASTM E1461