रासायनिक उद्योग में इलेक्ट्रोलाइटिक कोशिकाएं

रासायनिक उद्योग में इलेक्ट्रोलाइटिक कोशिकाएं

इलेक्ट्रोकेमिकल अनुप्रयोगों के लिए शुद्ध लोहा एनोड्स के निर्माता। क्लोर के लिए अनुकूलित - क्षार उत्पादन, इलेक्ट्रोइनिंग और जल उपचार। कस्टम आकार, उच्च शुद्धता और संक्षारण प्रतिरोध।
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विवरण

उत्पाद अवलोकन

हमारे शुद्ध लोहे की एनोड्स विशेष रूप से रासायनिक उद्योग में इलेक्ट्रोलाइटिक प्रक्रियाओं के लिए इंजीनियर हैं। कड़े धातुकर्म नियंत्रण के साथ हमारी अपनी फाउंड्री में निर्मित, ये एनोड आक्रामक इलेक्ट्रोलाइट वातावरण में उच्च विद्युत रासायनिक दक्षता, समान विघटन और विस्तारित सेवा जीवन प्रदान करते हैं। वे इलेक्ट्रोकेमिकल संश्लेषण, धातु वसूली और अपशिष्ट उपचार में विश्वसनीय और सुसंगत प्रदर्शन की आवश्यकता वाले अनुप्रयोगों के लिए आदर्श विकल्प हैं।

मुख्य विशेषताएं (रासायनिक इलेक्ट्रोलिसिस - विशिष्ट लाभ)

अल्ट्रा - कम अशुद्धता प्रोफ़ाइल
कार्बन (0.004%से कम या बराबर), फॉस्फोरस (0.008%से कम या उससे कम या उसके बराबर), और सल्फर (0.006%से कम या उसके बराबर) स्तर इलेक्ट्रोलाइट्स में अशुद्धता लीचिंग को रोकते हैं - उच्च - शुद्धता रसायन (el} {{{{{} {} {} {} {} {

बढ़ाया संक्षारण प्रतिरोध
मालिकाना सतह उपचार (पास होने, एसिड - प्रतिरोधी चढ़ाना, या सिरेमिक कोटिंग) अप्रासंगिक शुद्ध लोहे की तुलना में आक्रामक इलेक्ट्रोलाइट्स (जैसे, 30% NaOH, 20% HCL) में 80% तक संक्षारण दर को कम करता है।

स्थिर विद्युत चालकता
शुद्ध आयरन की अंतर्निहित चालकता (20 डिग्री पर 100 एस/एम) लंबे समय तक - शब्द का उपयोग - पर सुसंगत है, जो इलेक्ट्रोलाइटिक सेल में एक समान वर्तमान वितरण सुनिश्चित करता है, जो सेल झिल्ली या इलेक्ट्रोड को नुकसान पहुंचाने वाले हॉटस्पॉट से बचता है।

प्रक्रिया की स्थिति में यांत्रिक स्थिरता
तन्यता ताकत (310 एमपीए से अधिक या उससे अधिक या बराबर) और इलेक्ट्रोलिसिस तापमान (50-90 डिग्री) और दबावों (1-5 बार) - पर आयामी अखंडता को रोकता है, जो घटक युद्ध को रोकता है जो सेल संरेखण या द्रव प्रवाह को बाधित करता है।

आम इलेक्ट्रोलाइट्स के साथ संगतता
क्लोर - क्षार (NaCl/NaOH), धातु इलेक्ट्रोइनिंग (Cuso₄, Znso₄), और कार्बनिक संश्लेषण (सल्फ्यूरिक एसिड - आधारित) इलेक्ट्रोलाइट्स - रासायनिक इन्सम्पेटिबिलिटी का कोई जोखिम नहीं।

सेल डिजाइनों के लिए अनुकूलन योग्य
कस्टम आकृतियों (प्लेट, ट्यूब, फ्रेम, कोष्ठक) और आकारों (50 मिमी छोटे भागों से 2000 मिमी सेल फ्रेम से) में उपलब्ध है, जो आपके इलेक्ट्रोलाइटिक सेल ब्लूप्रिंट - से मेल खाने के लिए मोनोपोलर और द्विध्रुवी सेल कॉन्फ़िगरेशन दोनों का समर्थन करता है।

तकनीकी निर्देश

सामग्री:उच्च - शुद्धता लोहा (99.8%से अधिक या बराबर fe)

ग्रेड:वाणिज्यिक शुद्धता और अल्ट्रा - शुद्ध ग्रेड में उपलब्ध है

मानक रूप:प्लेट, छड़, बार, विस्तारित जाल

आयाम:सेल विनिर्देशों के लिए अनुकूलित

सतह:मसालेदार, पॉलिश या लेपित (आवश्यकतानुसार)

विशिष्ट विश्लेषण:

C 0.015% से कम या बराबर

0.010% से कम या बराबर

पी 0.012% से कम या बराबर

Si 0.02% से कम या बराबर है

प्रमाणन:मिल टेस्ट सर्टिफिकेट (MTC) प्रति en 10204 3.1

कार्यवाई के लिए बुलावा

उच्च - प्रदर्शन आयरन एनोड के साथ अपनी इलेक्ट्रोलाइटिक प्रक्रिया को अनुकूलित करने के लिए खोज रहे हैं?
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