अति-उच्च शुद्धता इलेक्ट्रोलाइटिक लोहे की प्लेटें

अति-उच्च शुद्धता इलेक्ट्रोलाइटिक लोहे की प्लेटें

हमारी अल्ट्रा-हाई प्योरिटी इलेक्ट्रोलाइटिक आयरन प्लेटें शून्य-सहिष्णुता अशुद्धता के स्तर, असाधारण विद्युत चालकता और आयामी स्थिरता की मांग करने वाले उद्योगों के लिए बेंचमार्क हैं। मालिकाना मल्टी-स्टेज इलेक्ट्रोलाइटिक रिफाइनिंग के माध्यम से निर्मित, ये प्लेटें अर्धचालक विनिर्माण, क्वांटम कंप्यूटिंग और अल्ट्रा-सटीक इलेक्ट्रोप्लेटिंग में उत्कृष्टता प्राप्त करती हैं।
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विवरण

उत्पाद अवलोकन

अल्ट्रा-हाई प्योरिटी इलेक्ट्रोलाइटिक आयरन प्लेटें असाधारण सामग्री स्थिरता और न्यूनतम अशुद्धता हस्तक्षेप की आवश्यकता वाले उद्योगों के लिए इंजीनियर हैं। उन्नत इलेक्ट्रोलाइटिक रिफाइनिंग और वैक्यूम शुद्धि के माध्यम से निर्मित, ये प्लेटें 99.995%से अधिक होने वाली Fe शुद्धता का स्तर प्राप्त करती हैं, जिससे वे अर्धचालक विनिर्माण, प्रिसिजन इंस्ट्रूमेंटेशन और उन्नत ऊर्जा प्रणालियों में महत्वपूर्ण अनुप्रयोगों के लिए आदर्श हैं।

रचना विश्लेषण

तत्व

सामग्री (पीपीएम)

प्रदर्शन पर प्रभाव

फ़े

999,950+

आधार सामग्री चालकता और संरचनात्मक अखंडता सुनिश्चित करना

C

10 से कम या बराबर

कार्बाइड गठन को रोकता है, लचीलापन और संक्षारण प्रतिरोध को बढ़ाता है

साई

20 से कम या बराबर

उच्च तापमान प्रक्रियाओं के दौरान स्लैग समावेश को कम करता है

एम.एन.

10 से कम या बराबर

शुद्धता से समझौता किए बिना कठोरता को बढ़ाता है

S

5 से कम या बराबर

सल्फाइड-प्रेरित भंगुरता को समाप्त करता है

P

5 से कम या बराबर

अनाज सीमा अलगाव को कम करता है और थर्मल स्थिरता में सुधार करता है

प्रमुख विशेषताऐं

विशेषता

विवरण

अति-उच्च शुद्धता ग्रेड

99.98%+ Fe (कार्बन से कम या 0 के बराबर या उसके बराबर। 0 0 2%, सल्फर 0.001%से कम या बराबर, ऑक्सीजन से कम या उससे कम 0.001%के बराबर)

बहु-स्तरीय इलेक्ट्रोलिसिस

दोहरे-रिफाइनमेंट प्रक्रिया अंतरालीय और संस्थागत अशुद्धियों को समाप्त करती है।

क्रायोजेनिक-ग्रेड माइक्रोस्ट्रक्चर

कम तापमान अनुप्रयोगों के लिए अनुकूलित अनाज संरचना को पुनर्संरचना।

वैक्यूम-ग्रेड सतह खत्म

दर्पण-पॉलिश (0 से कम या बराबर या चिपकने वाली बंधन के लिए etched सतहों से कम या बराबर।

कस्टम फैब्रिकेशन

लेजर-कटिंग, सीएनसी मशीनिंग, और होल-ड्रिलिंग सेवाएं उपलब्ध हैं।

ट्रेसबिलिटी सिस्टम

ब्लॉकचेन-सक्षम लॉट ट्रैकिंग खदान से अंतिम उत्पाद तक।

अनुप्रयोग

- सेमीकंडक्टर फैब्रिकेशन: ईयूवी लिथोग्राफी और क्वांटम कंप्यूटिंग घटकों के लिए अल्ट्रा-क्लीन सब्सट्रेट।

- परमाणु संलयन: विकिरण प्रतिरोध के कारण पहली-दीवार लाइनर और चुंबकीय कारावास प्रणाली।

-प्रेसीशन ऑप्टिक्स: एक्स-रे मिरर और लेजर घटकों के लिए बेस सामग्री उप-नैनोमीटर सतह समतलपन की आवश्यकता होती है।

- हाइड्रोजन इलेक्ट्रोलाइजर्स: पेम इलेक्ट्रोलाइजर्स के लिए टिकाऊ द्विध्रुवी प्लेटें, हाइड्रोजन उत्पादन दक्षता को बढ़ाते हैं।

प्रतियोगियों पर लाभ

{{{0}}% कम अशुद्धता का स्तर: कार्बन सामग्री 0 से कम या बराबर। 002% बनाम उद्योग मानक 0.005% से कम या बराबर।

-क्रोजेनिक संगतता: −196 डिग्री (तरल नाइट्रोजन) पर लचीलापन बनाए रखता है।

-जेरो अपशिष्ट विनिर्माण: शोधन में 98% सामग्री वसूली दर।

-डुअल सर्टिफिकेशन: एएसटीएम बी 832 और सेमी एफ 57 कॉम्प्लांट।

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